關于潔凈室里的溫濕度問題！

河北潔凈車間的溫度和濕度控制問題。 潔凈車間的溫度和濕度主要根據工藝要求確定，但在滿足工藝要求時應考慮人員的舒適度。 隨著空氣清潔度要求的增加，趨勢是該方法對溫度和濕度的要求越來越嚴格。

特定過程的溫度要求將在后面列出，但是作為一般原則，隨著加工精度越來越高，對溫度波動范圍的要求也越來越小。 例如，在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，要求玻璃和作為掩模材料的硅晶片的熱膨脹系數之間的差越來越小。 當溫度升高1度時，直徑為100 um的硅晶片將引起0.24 um的線性膨脹。 因此，它必須具有±0.1度的恒定溫度。 同時，通常要求濕度值低。 這是一個怕鈉的半導體車間，這種車間不應超過25度。

濕度過大會導致更多問題。 當相對濕度超過55％時，冷卻水管壁上會發生冷凝。 如果發生在精密設備或電路中，會引起各種事故。 相對濕度為50％時容易生銹。 另外，如果濕度過高，則附著在硅晶片表面上的塵埃會被空氣中的水分子化學吸附在表面上，難以除去。 相對濕度越高，附著力就越難去除，但是當相對濕度低于30％時，由于靜電力的作用，顆粒也很容易吸附在表面上，并且存在大量的半導體器件。 容易發生故障。 硅片生產的溫度范圍是35-45％